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  • 电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02（导电胶）

    详细摘要： 特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶...

    产品型号： 所在地：深圳市 更新时间：2024-04-01 在线留言

  • Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4400

    详细摘要： 特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadbａnd UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-bea...

    产品型号： 所在地：深圳市 更新时间：2024-04-01 在线留言

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